イオン注入
이온 레이저 주입 파운드리 서비스
종합 이온 레이저 주입 서비스는 Coherent에게 맡기세요. 규모와 분야에 관계 없이 안정적으로 지원할 수 있으며 수요 급증에 대응할 수 있는 용량을 제공합니다.
세계적 수준의 Coherent 이온 주입 파운드리는 300mm 웨이퍼 생산량부터 더 작은 크기의 웨이퍼와 칩에 대한 R&D, 화합물 반도체 기판의 가열 주입에 이르기까지 모든 형태의 주입 요구사항을 충족할 수 있습니다.
主な機能
- 분할 공정에 의해 도입된 웨이퍼의 휘어짐을 완화하기 위한 이식 공정(JA Turcaud, D Lee, D Rossman, G Lucchesi, B Chan US Patent App. 18/982,737)
- 이온 주입을 통한 편광판, 회절 그레이팅 및 메타 표면 제작(G Barbarossa, R Chebi, R Sundaram, J Turcaud, C Greiner 미국 특허 출원 제18/607,870호)
- 알루미늄 이온 빔 생성 소스 기술을 위한 시스템 및 방법(A Hassan, R Pong, J Turcaud, J Schuur US Patent App. 18/426,555)
비교할 수 없는 경험 Coherent는 업계에서 가장 경험이 풍부한 이온 임플란트 애플리케이션 팀을 활용하여 고객의 성공을 최적화할 수 있는 가장 빠르고 비용 효율적인 방법을 제공합니다.
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이온 이식으로 포토닉스의 미래 강화
스마트폰의 안면 인식부터 AI 기반 데이터센터의 고속 데이터에 이르기까지 오늘날의 연결된 세상은 정밀도 레이저로 실행됩니다. 이러한 고급 포토닉 장치는 현대적인 감지 및 통신의 기반입니다.
이 동영상에서는 이온 주입이 레이저 성능을 향상시키는 방법을 강조하여 엄격하게 초점을 맞춘 빔, 향상된 열 안정성 및 고급 다중 접합 설계를 가능하게 합니다. 레이저 채널 격리, 누화 감소, 속도와 신뢰성 향상에 중요한 역할을 합니다.
또한 VCSEL과 EEL이 어떻게 다른지, 그리고 둘 다 최첨단 응용 분야에 필수적인 이유에 대해서도 배우게 됩니다. 수십 년의 전문성과 글로벌 파운드리 모델을 갖춘 Coherent는 시뮬레이션부터 대량 웨이퍼 가공에 이르기까지 엔드 투 엔드 이온 주입 서비스를 제공하여 더 빠르고 스마트하게 혁신할 수 있도록 지원합니다.
▶️ 이온 주입이 어떻게 포토닉스의 미래를 만들어가고 있는지, 그리고 Coherent가 어떻게 설계를 향상시키는지 지금 시청하십시오.
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반도체 장치용 이온 이식
이온 주입은 이온을 고속으로 가속한 다음 반도체 화합물에 주입하는 기술입니다. 이 공정을 통해 전기 캐리어 수준 및 분포를 정밀하게 제어할 수 있어 재료의 전기적 특성을 높은 정확도로 맞춤화할 수 있습니다. Coherent는 세계 최대의 이온 주입 파운드리로, 고객의 요구를 충족하는 다양한 서비스를 제공합니다.
