エキシマレーザー
マイクロエレクトロニクス、ディスプレイ、科学研究、医療、および薄膜加工において、高エネルギーUVパルスを利用しています。
- 広範囲にわたるフィールド加工により、均一で広範囲かつ平坦な上向きのビームでサンプル表面を覆います。
- 拡張可能なUV印刷：試作段階から量産まで、印刷レベルを調整します。
- 最高精度の低温薄膜プロセスにおいて、レーザーエネルギーを選択的に蒸着させます。
幅広いエキシマレーザー製品ラインナップ
エキシマレーザー分野における50年の経験から、用途に適したエキシマレーザーを用いることで最高の結果が得られることを熟知しています。だからこそ、当社は優れた品質と性能を兼ね備えた、最も幅広いレーザー出力およびエネルギーオプションを提供しているのです。
ExciStar
ExciStar シマレーザーは、角膜切除、処方レンズのマーキング、光学センサーの製造といった精密な作業のために設計されています。
- 高リピーティングレート - 最大1kHz
- 天板 - 必要スペース 650×300mm。
- 193nm または 248nm - 高精度マーキングおよびアブレーション。
IndyStar
IndyStar 、インクジェットノズルの穴あけ、計測、光学テストなどの高速パルス用途に適した、堅牢で高性能なサイクルUVエキシマレーザーです。
- 高パルスレート - 24時間365日の稼働でも最大2kHz。
- 半導体用途 - Semi-S2準拠。
- 193nmおよび248nm - リソグラフィ開発、マスクおよび光学テスト、マイクロプロセッシング。
COMPex
COMPex レーザーは、厳しい用途に適した高いパルス間安定性と卓越したビーム均一性を備え、数百ミリジュールのパルスエネルギーを提供します。
- 高エネルギー - 数百ミリジュール。
- さまざまな波長 - 193nm、248nm、308nm、351nm。
- 薄膜加工のサポート - ウェーハ加工、パルスレーザー蒸着。
LEAP
LEAP レーザーは、高いデューティサイクル出力、高い信頼性、そして低い総所有コストを兼ね備え、高エネルギーかつ高精度な加工を実現します。
- 幅広い電力レベルの選択肢 - 同一プラットフォームで、最大600ワットまでの量産、試作、および開発に対応します。
- Pulse-on-Demand - パルスパターンをプロセスフローに合わせて調整し、運用コストを最小限に抑えます。
- 多目的用途 - パルスレーザー蒸着、微細加工、またはディスプレイ加工用に、193nm、248nm、308nmのモデルからお選びいただけます。
LAMBDA SX
LAMBDA SXは、生産現場で使用可能な産業用UVエキシマレーザーであり、ビームの安定性に加え、大面積のUV処理に対応する安定した高エネルギーパルスを備えています。
- 高出力 – 最大600W
- パルスエネルギー - 最大1000mJ。
- 高パルスレート - 最大600Hzで3交替制の大量生産。
VYPER
数kWの出力をVYPER レーザープラットフォームは、ディスプレイの大量生産を可能にする最高の処理能力を実現します。
- 超高出力 – 最大3600W。
- 極めて高いパルスエネルギー - パルスあたり最大6J。
- 卓越したエネルギー安定性 - OLEDおよびMicroLEDのバックプレーン加工に対応しています。
おすすめのブログ
MicroLEDディスプレイ製造の革新
Coherent社の新しいUVtransferシステムは、LLO（レーザーリフトオフ）、LIFT（レーザー誘導前方転写）、および修復・トリミング技術を通じて、MicroLEDの製造に革新をもたらしています。
始めましょうか？
連絡先情報を共有してください。専門スタッフがご連絡いたします。