エキシマレーザー
マイクロエレクトロニクス、ディスプレイ、科学研究、医療、および薄膜加工において、高エネルギーUVパルスの利点を活用してください。
- 広い領域の処理均一で広範囲にわたる円筒状のビームで試料表面を照射します。
- スケーラブルなUV出力試作段階から量産段階まで、出力レベルを柔軟に調整できます。
- 究極の精度：レーザーエネルギーを低温薄膜加工に選択的に導入する。
最も幅広いエキシマレーザーのラインナップ
当社はエキシマレーザー分野で50年以上の実績を有しており、お客様の用途に最適なエキシマレーザーを使用することで、最高の結果が得られることを熟知しています。そのため、最高品質と性能を兼ね備えた、業界最大級の出力およびエネルギーオプションのラインナップをご用意しております。
ExciStar
ExciStar 、角膜切削、矯正用レンズへのマーキング、光学センサーの製造といった繊細な作業向けに設計されています。
- 高いリフレッシュレート – 最大1 kHz。
- 天板 – 650 × 300 mm（設置面積）
- 193 nm または 248 nm – 高精度なマーキングとアブレーション。
IndyStar
IndyStar レーザーIndyStar 、高稼働率を誇る堅牢なUVエキシマレーザーであり、インクジェットノズル穿孔、計測技術、光学検査などの高速パルス用途向けに開発されました。
- 高いパルス周波数 – 24時間365日稼働のアプリケーションにおいて最大2 kHz。
- 半導体用途 – Semi-S2 互換。
- 193 nmおよび248 nm – リソグラフィ開発、マスクおよび光学系検査、微細材料加工。
COMPex
COMPex 、数百ミリジュールのパルスエネルギーを供給し、パルス間の安定性と優れたビーム均一性を備えており、要求の厳しい用途に最適です。
- 高エネルギー――数百ミリジュール。
- 波長バリエーション – 193 nm、248 nm、308 nm、351 nm。
- 薄膜加工に対応 – ウェハー加工、パルスレーザーを用いた成膜。
LEAP
LEAP エキシマレーザーLEAP 、高い稼働率、信頼性、そして低い運用コストを兼ね備えており、高エネルギーかつ高精度な加工を実現します。
- 幅広い出力レベルに対応 – 同一プラットフォームで、最大600ワットまでの量産、試作、開発をサポートします。
- オンデマンドパルス – プロセスフローに合わせてパルスパターンを調整し、運用コストを最小限に抑えます。
- 多用途 – パルスレーザーによる堆積、微細加工、またはディスプレイ加工向けに、193 nm、248 nm、308 nmのモデルからお選びいただけます。
LAMBDA SX
LAMBDA SX 安定した高エネルギーパルスを発生させる産業用UVエキシマレーザーLAMBDA SX 、ビームの安定性を維持しながら広範囲のUV加工を実現します。
- 高出力 – 最大600ワット。
- 高いパルスエネルギー – 最大1000 mJ。
- 高パルスレート – 最大600 Hzの3シフト体制による量産。
VYPER
VYPER数キロワット級のUVエキシマレーザープラットフォームは、ディスプレイの大量生産において最高のスループットを実現します。
- 非常に高い出力 – 最大3600ワット。
- 非常に高いパルスエネルギー – 1パルスあたり最大6ジュール。
- 比類なき電力安定性 – OLEDおよびMicroLEDバックプレーンの製造に対応。
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