エキシマレーザー
高エネルギーUVパルスは、マイクロエレクトロニクス、ディスプレイ、理科学研究、医療、薄膜加工などにご活用いただけます。
- 大型フィールドサイズの加工：均一な広範囲のフラットトップビームでサンプル表面を照射します。
- 調整可能なUV出力：試作から量産まで、適切な出力レベルに対応します。
- 卓越した精度：低温薄膜加工により、レーザーエネルギーを選択的に照射することができます。
豊富なエキシマレーザーのラインナップ
当社は50年にわたるエキシマレーザーの経験に基づき、お客様が用途に適したエキシマレーザーをご利用いただければ、最高の結果が得られると確信しています。そのため、当社は優れた品質と性能を兼ね備え、幅広いレーザー出力とエネルギー範囲の製品ラインナップをご用意しています。
ExciStar
ExciStar卓上型UVエキシマレーザーは、角膜アブレーションや処方レンズのマーキング、光学センサーの製造など、精密な作業向けに設計されています。
- 高周波数：最大1 kHz。
- 卓上型：650×300mmのコンパクトなデザイン。
- 193 nmまたは248 nm：高精度なマーキングとアブレーション。
IndyStar
IndyStarレーザーは、インクジェットノズルの穴あけ、計測、光学試験など、高速パルスを必要とする用途向けに設計された、堅牢で高デューティサイクルのUVエキシマレーザーです。
- 高パルスレート：24時間365日の稼働が求められる用途において、最大2 kHzの高パルスレートを実現。
- 半導体用途に最適：Semi-S2に準拠。
- 193 nmモデルと248 nmモデル：リソグラフィ開発、マスク、光学系のテスト、微細加工。
COMPex
COMPex 、要求の厳しい用途向けに、数百mJのパルスエネルギーを、高いパルス間安定性と優れたビーム均一性とともに提供します。
- 高エネルギー：数百mJ。
- 対応波長：193 nm、248 nm、308 nm、351 nm。
- 薄膜加工に対応：ウェハ加工やパルスレーザー堆積（PLD）。
LEAP
LEAP 、高エネルギー・高精度加工に加え、高デューティサイクル出力、高信頼性、低所有コストという条件をすべて満たしています。
- 幅広い出力レベル - 同一プラットフォーム上で、最大600ワットまでの量産、試作、開発に対応します。
- パルスオンデマンド機能：パルスパターンを加工フローに合わせて調整することで、運用コストを最小限に抑えることができます。
- 汎用性：パルスレーザー堆積（PLD）、微細構造形成、ディスプレイ加工に適した193 nm、248 nm、308 nmのモデルから選択可能。
LAMBDA SX
LAMBDA SXは、生産現場向けの産業用UVエキシマレーザーです。安定した高エネルギーパルスにより、安定したビームで広範囲のUV加工に対応します。
- 高出力：最大600ワット。
- 高パルスエネルギー：最大1000 mJ。
- 高パルスレート：最大600 Hzでの3シフト体制による大量生産。
VYPER
VYPERの1～数kW級UVエキシマレーザープラットフォームは、大量ディスプレイ生産に求められる極めて高いスループットを実現します。
- 超高出力：最大3600ワット。
- 1パルスあたり最大6ジュールという極めて高いパルスエネルギー。
- 比類なきエネルギー安定性：有機ELおよびMicroLEDのバックプレーン加工に対応。
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