パルスレーザー堆積(PLD)

PLDを使用し、当社独自の強力なエキシマレーザーを活用して、多種多様な薄膜を迅速に作製します。

  • 化学量論的薄膜 当社の安定したエキシマレーザーを用いて、総厚さを制御した化学量論的層を形成します。
  • より高速な成膜当社のエキシマレーザーの高いパルスエネルギーを活用し、大面積の薄膜をより迅速に製造します。
  • 三移 PLDは、当社のレーザーが実証済みの稼働率と信頼性を備えているため、お客様の生産プロセスを24時間365日、年中無休で稼働させることができます。
パルスレーザ成膜
パルスレーザ成膜

多機能堆積

OLEDディスプレイ、MEMS、半導体、太陽光発電、医療用センサー、携帯電話、先進電池など、ますます多くの技術や産業が薄膜技術に依存しています。PLDは、ダイヤモンド様炭素(DLC)、ペロブスカイト、圧電材料、高温超伝導体(HTS)など、多様な材料への適用が可能であるため、通常、第一の製造法として選ばれています。これらすべてのケースにおいて、当社のエキシマレーザーは、PLDによる高速な成膜、精密な深さ制御、および高精度な化学量論的制御を実現します。

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エンスヘデのSolmates社は、高出力エキシマレーザーを用いて薄膜製造装置を開発した

LEAP 所属するArjen Janssens氏とその同僚たちは、LEAP を活用し、革新的なパルスレーザー蒸着装置を開発しました。この装置は、将来のチップ設計の開発や新しい薄膜材料の統合において重要な役割を果たすことになります。薄膜産業におけるレーザー技術の応用事例について、さらに詳しくご覧ください。

 

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