パルスレーザー蒸着（PLD）
PLDを活用して、当社の比類なき高性能エキシマレーザーで、多種多様なフィルムを迅速に作成してください。
- 化学量論的膜 厚みを完全に制御した化学量論的膜の形成には、当社の堅牢なエキシマレーザーをご活用ください。
- より高速な堆積当社のエキシマレーザーの高いパルスエネルギーを活用し、大面積の薄膜をより迅速に作製できます。
- 3層PLD 当社のレーザーは実績ある稼働時間と信頼性を誇り、24時間体制での生産が可能です。
多様な堆積
OLEDディスプレイ、MEMS、半導体、太陽光発電、医療用センサー、携帯電話、最新型バッテリーなど、ますます多くの技術や産業が薄膜技術に依存するようになっています。 PLDは、ダイヤモンド様炭素（DLC）、ペロブスカイト、圧電体、高温超伝導体（HTS）など、多種多様な材料に対して優れた性能を発揮するため、多くの場合、最適な製造手法として選ばれています。これらすべてのケースにおいて、当社のエキシマレーザーは、高速なPLD、精密な深さ制御、および高精度な化学量論比を実現します。
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製品の用途
PLD – 製品
注目動画：
ソルメイツ（エンシェデ）の薄膜成膜装置向け高性能エキシマレーザー
オランダ・エンスヘデにあるSolmates社のArjen Janssens氏とその同僚たちは、 LEAPを活用し、将来のチップ設計や新しい薄膜材料の統合において重要な役割を果たす革新的なパルスレーザー蒸着装置を開発しています。薄膜産業におけるレーザー技術について、さらに詳しくご覧ください。
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