UVレーザーシステム
当社の独自の高出力紫外線レーザーを最大限に活用し、その完全な光学システム構成をLTPS、LLO、LIFT、PLD、LA-ICP-MSなどに適用します。
- 垂直統合：当社の極めて長寿命なレーザー、光学部品、および機械を採用することで、リスクを回避し、24時間365日の稼働を実現します。
- 実績のある産業用ツールは、高性能なモバイルディスプレイを実現する技術と同じ基盤技術を採用しています。
- 紫外光の波長オプションは、193、248、308 nmのシステム、およびカスタム設定の157または351 nmから選択できます。
当社の専門知識を紫外線レーザー加工に応用する
紫外線レーザーおよび光学システム分野における50年の経験に基づき、当社はエキシマ光ビームの制御、成形、集光に関する課題を熟知しています。垂直統合体制を活かし、当社が設計・製造・組立を行う完全なシステムは、厳しい基準を満たすことができます。
UV転写
UVtransferレーザーシステムは、次世代microLEDディスプレイの製造に特化した用途に対応しています。
- 高スループット - 高出力エキシマレーザーは、大きな照射領域に対応しています。
- 未来を見据えて - 50 µm から 5 µm までのチップサイズに対応可能です。
- 研究開発から量産に至るまでの3つの包括的なプロセスソリューション。
ラインビーム
LineBeamのエキシマ紫外線レーザーは、大型基板上での低温ポリシリコン（LTPS）バックプレーンの大規模製造に貢献し、極めて高い歩留まりを実現します。
- 長距離ビーム - 最大 1500 mm。
- 高度な均一性 - 0.6 % (2σ)。
- 最大被写界深度 - 最大 ±150 µm。
UVブレード
UVblade エキシマレーザーは、LLO に対して費用対効果の高いソリューションを提供し、波長およびエネルギー密度の面で高い光学効率と幅広い拡張性を備えています。
- 高度に均一 - 1.8 %
- 最大被写界深度 - 最大 ±200 µm。
- 高パルスエネルギー - 最大 2000 mJ。
エキシマ光ビーム伝送用光学部品
エキシマビーム伝送用の優れた光学機械ツールを入手してください。本製品は、高パルスエネルギー、短波長紫外線、および高出力のユニークな組み合わせに合わせて最適化されています。
- 均匀光束 - <± 5% 通量变化。
- 可変減衰 - 精密なエネルギー制御。
- マスク画像の投影 - 4～10倍の縮小。
VarioLas
VarioLas エキシマ紫外線レーザーは、高性能なCOMPex をベースとしており、線状ビームまたは方形ビームの光斑形状を用いた高品質な紫外線マイクロ加工に適しています。
- エネルギー密度が高い - 最大7.5 J/cm²。
- 多機能で調整可能 - 円形または四角形の輪郭。
- 高光学分解能 - 5 µm以上。
GeoLasGC
GeoLasGC エキシマレーザーアブレーションシステムは、193 nmの高パルスエネルギー、高性能偏光顕微鏡、高解像度カメラによる観察など、数多くの機能と特性を融合させており、レーザーアブレーションICP-MSを実現するために使用されます。
- 高い光学分解能 - 1 µm。
- 可変サンプルポイント - 2 ～ 160 µm。
- 高パルス安定性 - 1 % (rms)。
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MicroLEDディスプレイとは何ですか？
MicroLED（µLED）は、鮮やかで明るい高解像度ディスプレイを製造するための比較的新しい技術です。今後5年間で、µLEDディスプレイ市場は100億ドル規模以上に成長すると見込まれており、その生産を支える上でレーザー技術が重要な役割を果たしています。
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