UVレーザーシステム
LTPS、LLO、LIFT、PLD、LA-ICP-MSなどに対応した完全な光学システムを備えた、当社独自のハイパワーUVレーザーを最大限にご活用ください。
- 垂直統合：当社の長寿命レーザー、光学部品、および機構部品により、リスクを回避し、24時間365日の稼働を実現します。
- 実績ある産業用ツールは、高性能モバイルディスプレイを実現する技術と同じ基盤技術を採用しています。
- 波長 ：193、248、308 nmのシステムに加え、157 nmまたは351 nmのカスタムオプションもご用意しています。
UVレーザー加工における当社の専門知識
当社はUVレーザーおよび光学システム分野で50年の実績を有しており、エキシマビームの管理、整形、集光における課題を熟知しています。また、垂直統合体制を活かして、最も厳格な基準に基づき、システム全体の設計、製造、組立を行っています。
UV転写
UVtransferのレーザーシステムは、次世代マイクロLEDディスプレイの製造における専用アプリケーションに対応しています。
- 高スループット - 高エネルギーエキシマレーザ 、広い照射領域エキシマレーザ 。
- 将来を見据えた設計 - 50 µmから5 µmまでのダイサイズに対応。
- 研究開発から量産に至るまでのプロセスに対応する3つのターンキーソリューション。
ラインビーム
LineBeamのUVレーザーシステムは、大型基板パネル上で低温度ポリシリコン（LTPS）バックプレーンの量産を、最高の歩留まりで実現します。
- ロングラインビーム - 最大1500 mm。
- 高い均一性 - 0.6 % (2σ)。
- 広い焦点深度 - 最大±150 µm。
UVブレード
UVbladeエキシマレーザーは、高い光効率と、波長やエネルギー密度における幅広い拡張性を備え、LLO（低損失光学系）向けのコスト効率に優れたソリューションを提供します。
- 高い均一性 - 1.8 %
- 広い焦点深度 - 最大±200 µm。
- 高パルスエネルギー 最大2000 mJ。
エキシマビーム伝送ビーム伝送オプティクス
パルスエネルギー、短波長UV、高出力の独自の組み合わせに最適化された、 エキシマビーム送光用の優れた光機械ツールを手に入れましょう。
- Homogenize a Beam - <± 5% fluence variation.
- 可変減衰 - 精密なエネルギー制御。
- マスク画像投影 - 4～10倍の縮小。
VarioLas
VarioLasエキシマUVレーザーは、強力なCOMPex エキシマレーザ をベースにしており、直線ビームまたは方形ビームのビーム形状を用いてエキシマレーザ 高品質なUVマイクロ加工エキシマレーザ 。
- 高エネルギー密度 - 最大7.5 J/cm²。
- 汎用性が高く、調整可能 ― ライン型またはスクエア型。
- 高い光学分解能 - 5 µm以上。
GeoLasGC
GeoLasGCエキシマUVシステムは、193 nmのパルス、高性能偏光顕微鏡、およびHDカメラによる観察機能を組み合わせ、レーザアブレーション を実現します。
- 高い光学分解能 - 1 µm。
- 可変サンプルスポット - 2 - 160 µm。
- 高いパルス安定性 - 1 % (rms) 。
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MicroLEDディスプレイとは何ですか？
マイクロLED（µLED）は、鮮明で高解像度のディスプレイを実現する比較的新しい技術である。今後5年間で、µLEDディスプレイ市場は100億ドル規模以上に成長すると予測される——そしてレーザーはその製造を可能にする上で重要な役割を担っている。
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