UVレーザーシステム
LTPS、LLO、LIFT、PLD、LA-ICP-MSなどに対応した、完全な光学システムを備えた当社独自のハイエネルギーUVレーザーの利点をぜひご活用ください。
- 垂直統合：当社の耐久性に優れたレーザー、光学系、および機構部品を活用することで、リスクを回避し、24時間体制の稼働を実現できます。
- 実績ある産業用ツール高性能なモバイルディスプレイの製造に採用されているのと同じ基盤技術をご活用ください。
- UV波長オプション：193 nm、248 nm、308 nmのシステムに加え、157 nmまたは351 nmのカスタムオプションからお選びいただけます。
UVレーザー加工における当社のノウハウ
UVレーザーおよび光学システムに関する50年の経験に基づき、当社はエキシマ光線の利用、成形、集光における課題を深く理解しています。垂直統合体制により、最高水準の基準に従ってシステム全体の設計、製造、組立を行っています。
UV転写
UVトランスファーレーザーは、次世代マイクロLEDディスプレイの製造における特殊な用途を支援します。
- 高いスループット – 高エネルギーエキシマレーザーは、広い照射領域に対応しています。
- 将来を見据えた設計 – 50 µmから5 µmまでのサイズに対応。
- 研究開発から量産に至るまでのプロセスに対応する、3つのターンキーソリューション。
ラインビーム
LineBeamのUVレーザーシステムは、大型基板上で低温度ポリシリコン（LTPS）バックプレーンの大量生産を、最高レベルの歩留まりで実現します。
- 長距離ラインビーム – 最大1500 mm。
- 高い均一性 – 0.6 % (2σ)。
- 広い測定範囲 – 最大±150 µm。
UVブレード
UVbladeエキシマレーザーは、高い光効率と、波長およびエネルギー密度における幅広い拡張性を備え、LLO（低利得光学）用途にコスト効率に優れたソリューションを提供します。
- 高い均一性 – 1.8 %
- 広い測定範囲 – 最大±200 µm。
- 高いパルスエネルギー – 最大2000 mJ。
エキシマビーム伝送ビーム伝送オプティクス
エキシマレーザーのビーム出力を最適化するための、優れた光機械ツールをご活用ください。 高いパルスエネルギー、短波長の紫外線、そして高出力を兼ね備えた独自の組み合わせを実現します。
- Homogenisieren eines Strahls – <± 5 % Fluenzschwankung.
- 可変減衰 – 精密なエネルギー制御。
- 仮面画像の投影 – 4～10分の1の縮小。
VarioLas
VarioLasエキシマUVレーザーは、強力なCOMPexをベースとしており、線状ビームまたは正方形のビームパターンによる高品質なUVマイクロ加工を実現します。
- 高いエネルギー密度 – 最大7.5 J/cm²。
- 多用途で調整可能 – 丸型または角型プロファイル。
- 高い光学分解能 – 5 µm以上。
GeoLasGC
GeoLasGCエキシマUVシステムは、193 nmパルス、高性能偏光顕微鏡、およびHDカメラによる観察機能を組み合わせ、レーザーアブレーションICP-MSを実現します。
- 高い光学分解能 – 1 µm。
- 可変サンプルスポット – 2～160 µm。
- 高いパルス安定性 – 1 % (rms)。
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MicroLEDディスプレイとは何ですか？
MicroLED（µLED）は、鮮やかで高解像度のディスプレイを実現する比較的新しい技術です。今後5年間で、µLEDディスプレイの市場規模は100億米ドル以上に拡大すると見込まれており、その製造においてレーザーは極めて重要な役割を果たしています。
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