UVレーザーシステム
独自の高エネルギーUVレーザーを、LTPS、LLO、LIFT、PLD、LA-ICP-MSなどに対応した完全な光学システムで最大限に活用します。
- 垂直統合、長寿命のレーザー、光学系、および構造により、リスクを回避し、24時間365日稼働が可能。
- 実績のある産業用ツール。高性能モバイルディスプレイと同じ技術を採用しています。
- UV波長オプションとして、193 nm、248 nm、308 nmのシステムに加え、カスタム仕様の157 nmまたは351 nmオプションから選択可能です。
UVレーザープロセスにおける当社の専門知識をご活用ください
50年にわたるUVレーザーおよび光学システムの経験に基づき、当社はエキシマレーザービームの制御、形成、集束に関する課題に精通しています。当社は垂直統合体制を活用し、最も厳しい基準に適合するよう、システム全体の設計、製造、組立を行っています。
UV転写
UVtransferレーザーシステムは、次世代microLEDディスプレイの製造における専用アプリケーションに対応しています。
- 高スループット - 高エネルギーエキシマレーザーによる広範囲の照射領域への対応。
- 未来につながる - 50 ～ 5 µmのダイサイズに対応。
- 研究開発から量産までのプロセスに対応する3つのターンキーソリューション。
ラインビーム
LineBeamエキシマUVレーザーを使用すれば、高い生産性で、大型の下地パネル用低温ポリシリコン（LTPS）バックプレーンを大量生産することができます。
- 長いラインビーム - 最大1500 mm。
- 高い均一性 - 0.6% (2σ)。
- 焦点深度が大きい - 最大±150 µm。
UVブレード
UVbladeエキシマレーザーは、光効率に優れ、波長とエネルギー密度の拡張性に優れた、コスト効率の高いソリューションをLLOに提供します。
- 高い均一性 - 1.8%。
- 焦点深度が大きい - 最大±200 µm。
- 高パルスエネルギー - 最大2000 mJ。
エキシマビーム伝送光学系
高パルスエネルギー、短波長紫外線、高出力というユニークな組み合わせに最適化された、エキシマビーム伝送用の優れた光機械ツールをご入手ください。
- ビームの均一化 - 流れの変動が5%以下。
- 可変減衰 - 正確なエネルギー制御。
- 画像投影のマスク - 4～10倍の縮小倍率。
VarioLas
VarioLasエキシマUVレーザーは、強力なCOMPexエキシマレーザーをベースに、ラインビームまたはスクエアビームのビーム形状による高品質なUV微細加工を実現します。
- 高エネルギー密度 - 最大7.5（J/cm²）。
- 多目的かつ調整可能 - ライン型またはスクエア型。
- 高い光学分解能 - 5 µm以上。
GeoLasGC
GeoLasGCエキシマUVシステムは、193 nmパルス、高性能偏光顕微鏡、HDカメラによる観察を組み合わせることで、レーザーアブレーションICP-MSを実現します。
- 高い光学分解能 - 1 µm。
- 多目的サンプルスポット2 - 160 µm。
- 優れたパルス安定性 - 1%（rms）。
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MicroLEDディスプレイとは。
MicroLED（µLED）は、鮮明で高解像度のディスプレイを実現する比較的新しい技術です。今後5年間で、µLEDディスプレイ市場は100億ドルを超える規模に成長すると見込まれており、レーザーはその生産において重要な役割を果たします。
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